日立 H-9500 透射電子顯微鏡
名稱:光學測試儀器
品牌:
型號:
簡介:原子分辨率300kV透射電子顯微鏡在精細加工技術已進入到亞納米級水平的半導體,先進材料的研發(fā)領域,原子分辨率電子顯微鏡正在成為日益重要的,不可或缺的工具。為了滿足這種高端需求,日立高新技術公司研發(fā)出了H -9500透射電子顯微鏡,此款高分辨...
原子分辨率300kV透射電子顯微鏡在精細加工技術已進入到亞納米級水平的半導體,先進材料的研發(fā)領域,原子分辨率電子顯微鏡正在成為日益重要的,不可或缺的工具。為了滿足這種高端需求,日立高新技術公司研發(fā)出了H -9500透射電子顯微鏡,此款高分辨透射電子顯微鏡不僅具備實地驗證過的各種優(yōu)秀性能,而且配置了很多滿足客戶多種需求的獨特功能,并采用了最新的數(shù)字技術,便于用戶及時快速獲取原子水平的樣品結(jié)構(gòu)信息。
原子分辨率300kV透射電子顯微鏡
在精細加工技術已進入到亞納米級水平的半導體,先進材料的研發(fā)領域,原子分辨率電子顯微鏡正在成為日益重要的,不可或缺的工具。為了滿足這種高端需求,日立高新技術公司研發(fā)出了H -9500透射電子顯微鏡,此款高分辨透射電子顯微鏡不僅具備實地驗證過的各種優(yōu)秀性能,而且配置了很多滿足客戶多種需求的獨特功能,并采用了最新的數(shù)字技術,便于用戶及時快速獲取原子水平的樣品結(jié)構(gòu)信息。
備注:FPD(平板顯示器)上的圖像為模擬圖像。
(*):Windows®是微軟公司在美國及其他國家所注冊的商標。
分辨率 | 0.10nm(晶格分辨率) | |
0.18nm(點分辨率) | ||
加速電壓 | 300kV, 200kV(*1), 100kV(*1) | |
放大倍率 | 連續(xù)放大模式 | 1,000 - 1,500,000× |
選區(qū)模式 | 4,000 - 500,000× | |
低倍模式 | 200 - 500× | |
電子槍 | 燈絲 | LaB6(六硼化鑭燈絲,直流加熱) |
燈絲交換 | 自動升降式電子槍 | |
高壓電纜 | 阻抗電纜 | |
照射系統(tǒng) | 透鏡 | 四級透鏡 |
聚光鏡光闌 | 4孔可變 | |
探針尺寸 | 微米束模式:0.05 - 0.2µm(4級) | |
納米束模式:1 - 10nm(4級) | ||
電子束傾斜 | ±3° | |
成像系統(tǒng) | 透鏡 | 五級透鏡 |
聚焦 | 圖像搖擺調(diào)整 | |
利用像散監(jiān)視器進行正焦補償 | ||
聚焦優(yōu)化 | ||
物鏡光闌 | 4孔可變光闌 | |
選區(qū)光闌 | 4孔可變光闌 | |
電子衍射 | 選區(qū)電子衍射 | |
納米探針電子衍射 | ||
會聚束電子衍射 | ||
相機長度 | 250 - 3,000mm | |
樣品室 | 樣品臺 | 5軸優(yōu)中心海帕測角臺 |
樣品尺寸 | 3mmΦ | |
樣品位置追蹤 | X/Y = ±1mm, Z = ±0.3mm | |
通過CPU控制馬達驅(qū)動 | ||
樣品位置顯示 | 自動驅(qū)動,自動跟蹤 | |
樣品傾斜 | α = ±15°, β = ±15° | |
(日立雙傾樣品臺(*2)) | ||
防污染 | 冷阱 | |
烘烤功能 | 中溫烘烤功能 | |
觀察室 | 熒光屏 | 主屏:110mmΦ |
聚焦屏:30mmΦ | ||
目鏡 | 7.5× | |
照相室 | 區(qū)域選擇 | 整張照相/半張曝光 |
膠片 | 25張(2套膠片盒) | |
圖形用戶界面 | 操作系統(tǒng):Windows XP®(*3) | |
顯示器 | 19英寸顯示器 | |
功能 | 數(shù)據(jù)庫,測量,圖像處理 | |
數(shù)碼CCD 相機(*4) | 相機耦合 | 透鏡耦合 |
有效像素 | 1,024 × 1,024 像素 | |
A/D 分辨率 | 12 位 | |
真空系統(tǒng) | 電子槍 | 離子泵:60L/s |
鏡筒 | 渦輪分子泵:260L/s | |
觀察室/照相室 | 擴散泵:280L/s | |
前級泵:135L/min × 3 臺 |
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