捷歐路JEOL JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng)
名稱(chēng)：其他儀器與工具
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簡(jiǎn)介：捷歐路JEOL JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng)通過(guò)全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫(xiě)速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。 捷歐路JEOL JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)備占地面積為4.9...
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- 產(chǎn)品介紹
捷歐路JEOL JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng)通過(guò)全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫(xiě)速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
捷歐路JEOL JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)備占地面積為4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往機(jī)型占用空間更小，外形更加緊湊美觀。正常工作時(shí)的功耗約為3kVA，僅需以往機(jī)型耗電量的1/3。具備高分辨率和高速兩種刻寫(xiě)模式，非常適用于超微細(xì)加工以及批量生產(chǎn)。該設(shè)備減少了刻寫(xiě)過(guò)程中的無(wú)謂耗時(shí)，并將掃描頻率提升至業(yè)界最高最水準(zhǔn)的125MHz (以往機(jī)型的1.25～2.5倍)，使其具備更高的生產(chǎn)能力。JBX-8100FS系列設(shè)有G1（基本版）和G2（全配版）兩種機(jī)型。G1機(jī)型裝機(jī)后也可進(jìn)行升級(jí)，使其支持更高的應(yīng)用需求。安裝光學(xué)顯微鏡（選配）后，在避免光刻膠感光的的同時(shí)可對(duì)材料上的圖形進(jìn)行確認(rèn)。設(shè)備還配備了信號(hào)塔（標(biāo)配），實(shí)現(xiàn)了視覺(jué)范圍內(nèi)的系統(tǒng)運(yùn)行狀況監(jiān)控。采用分辨率為0.6nm的激光干涉儀，對(duì)樣品臺(tái)位置進(jìn)行高精度的量測(cè)控制。配備了Linux®系統(tǒng)，圖形用戶(hù)界面使操作更加簡(jiǎn)單，便于初學(xué)者使用。數(shù)據(jù)準(zhǔn)備程序支持Linux®和Windows®
| 機(jī)型 | G1 (基本版) | G2 (全配版) |
| 描畫(huà)方式 | 圓形束斑, 矢量掃描, 步進(jìn)重復(fù)移動(dòng)方式 | ← |
| 加速電壓 | 100kV | 100kV/50kV |
| 電流 | 5×10-12 ～ 2×10-7A | ← |
| 寫(xiě)場(chǎng)尺寸 | 最大1,000μm×1,000μm | 最大2,000μm×2,000μm |
| 掃描頻率 | 最大125MHz | ← |
| 樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 | 190mm×170mm | ← |
| 套刻精度 | ≦±9nm | ← |
| 場(chǎng)拼接精度 | ≦±9nm | ← |
| 正常工作時(shí)的功耗 | 3kVA | ← |
| 樣品尺寸 | 最大200mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小樣品。 | ← |
| 材料傳送 | （1張）自動(dòng)裝載系統(tǒng) | （12張）自動(dòng)裝載系統(tǒng) |
| 主要選配件 |
光學(xué)顯微鏡 25kV加速電壓 數(shù)據(jù)準(zhǔn)備程序的追加授權(quán) |
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