牛津儀器 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）PlasmaPro 1000
名稱：其他儀器與工具
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簡介：大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案，LED工業(yè)要求高產(chǎn)量，高器件質量和低購置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。 更大的批量生產(chǎn)能力 高產(chǎn)量 更穩(wěn)定的器件質量 低購置成本 提供單晶圓傳送腔室或者多至三個腔室的集群式配置 ...
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- 產(chǎn)品介紹
大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案，LED工業(yè)要求高產(chǎn)量，高器件質量和低購置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
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更大的批量生產(chǎn)能力
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高產(chǎn)量
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更穩(wěn)定的器件質量
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低購置成本
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提供單晶圓傳送腔室或者多至三個腔室的集群式配置
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標準的真空傳送腔室，具有直開式和集群式選項
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出色的正常運轉時間
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高質量器件性能和良率
特點
PlasmaPro 1000設備能為LED生產(chǎn)商提供更好的行業(yè)優(yōu)勢
490mm電極 - 更為先進的批量規(guī)模，多達7 x 6”晶圓，提供了更高的產(chǎn)量
可靠的硬件系統(tǒng)易維護性 - 出色的正常運轉時間
最大化壓盤 - 增強晶圓冷卻
Z向可移動電極 - 更好的均勻性
雙進氣口 - 易于工藝調整
特殊的載盤設計 - 每片晶圓在最小的邊緣去除區(qū)域之內，均獲得有效的冷卻，且易于使用和維護
高導通的徑向（軸對稱）抽氣結構 - 確保提升了工藝均勻性和速率
應用
- 高質量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅，用于光子學、電介質層、鈍化以及諸多其它用途
- 用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模沉積和刻蝕
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