布魯克Bruker JVX7300LSI 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x是專們?cè)诰€監(jiān)控半導(dǎo)體材料研發(fā)生產(chǎn)過程的一款儀器。布魯克Bruker JVX7300LSI 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x全自動(dòng)分析許多先進(jìn)材料。標(biāo)準(zhǔn)配置是JVX7300L,實(shí)現(xiàn)掃描HRXRD XRR,XRD、GI-XRD WA-XRD。具有全自動(dòng)光學(xué)來源,系統(tǒng)可以切換標(biāo)準(zhǔn)XRD,高分辨率,和x射線反射率模式無(wú)需用戶干預(yù),甚至在同一配方批。布魯克Bruker JVX7300LSI 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x完全自動(dòng)化的校準(zhǔn)、測(cè)量、分析和報(bào)告的結(jié)果可以確保生產(chǎn)和快速描述薄膜。允許平面x射線衍射測(cè)量,可以添加可選的信息通道。
布魯克Bruker JVX7300LSI 半導(dǎo)體計(jì)量?jī)x升級(jí)為HRXRD s通道的結(jié)構(gòu),HRXRD圖案結(jié)構(gòu),通道可以添加。這提供了一種高分辨率束50µmx50µm樣品,連同完整的模式識(shí)別,并允許測(cè)試結(jié)構(gòu)的測(cè)量有圖案的晶片。主要應(yīng)用:FinFET表征,包括外延層;III-V如果未來的節(jié)點(diǎn)上的發(fā)展;氮化鎵對(duì)Si的功率晶體管;High-K厚度、密度和結(jié)晶度;所有應(yīng)用程序都是通過我們的綜合分析軟件套件進(jìn)行分析模擬。
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